KFU. Card publication. Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума

- RUS
- 中文
- ES

ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ СЛОЯ ПОЛОЖИТЕЛЬНОГО ЗАРЯДА ПРИ МОДИФИКАЦИИ ИЗДЕЛИЙ В СТРУЕ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ЁМКОСТНОГО РАЗРЯДА В УСЛОВИЯХ ДИНАМИЧЕСКОГО ВАКУУМА

Form of presentation

Articles in Russian journals and collections

Year of publication

2024

Язык

русский

Authors, employees of KFU

Zheltukhin Viktor Semenovich, author

Other authors

Abdullin Ildar Shaukatovich, author

Sagitova Farida Ravilevna, author

Shaekhov Mars Faridovich, author

Authors, postgraduates KFU

Nekrasov Igor Konstantinovich, postgraduate kfu

Bibliographic description in the original language

Abdullin I. Sh. Osobennosti formirovaniya sloya polozhitelnogo zaryada pri modifikacii izdeliy v strue vysokochastotnogo yomkostnogo razryada v usloviyakh dinamicheskogo vakuuma / I. Sh. Abdullin, V. S. Zheltukhin, I.K. Nekrasov [i dr.] // Fizika i khimiya obrabotki materialov. - 2024. - № 1. - S. 30-40.

Annotation

В работе представлено физическое описание формирования слоя положительного заряда вокруг объекта исследования при обработке в высокочастотном ёмкостном (ВЧЕ) разряде, вследствие чего возникает направленный поток низкоэнергетических ионов, бомбардирующих поверхность модифицируемого изделия. С помощью голографических измерений продемонстрировано наличие слоя, отличающегося от плазмы ВЧЕ разряда, вокруг обрабатываемого тела. Оптимальным методом измерений был признан метод перезаписи голограмм, суть которого состояла в последовательной регистрации голограмм с использованием восстановленных волн с предыдущей голограммы, благодаря чему коэффициент чувствительности измерений увеличивается. Представлено теоретическое обоснование голографических измерений, а также исследовано влияние потенциалов плазмы, энергий ионов и плотности ионного тока на поверхность обрабатываемого тела. Детально описаны методология экспериментов и измерительное оборудование.

Keywords

слой положительного заряда (СПЗ), поток низкоэнергетических ионов, высокочастотный ёмкостной (ВЧЕ) разряд, плазменная обработка

The name of the journal

Физика и химия обработки материалов

URL

https://old.imet.ac.ru/fxom/2024-1.htm

Please use this ID to quote from or refer to the card

https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=304995&p_lang=2

Full metadata record

Field DC	Value	Language
dc.contributor.author	Zheltukhin Viktor Semenovich	ru_RU
dc.contributor.author	Abdullin Ildar Shaukatovich	ru_RU
dc.contributor.author	Sagitova Farida Ravilevna	ru_RU
dc.contributor.author	Shaekhov Mars Faridovich	ru_RU
dc.contributor.author	Nekrasov Igor Konstantinovich	ru_RU
dc.date.accessioned	2024-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2024-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2024	ru_RU
dc.identifier.citation	Абдуллин И. Ш. Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума / И. Ш. Абдуллин, В. С. Желтухин, И.К. Некрасов [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2024. - № 1. - С. 30-40.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=304995&p_lang=2	ru_RU
dc.description.abstract	Физика и химия обработки материалов	ru_RU
dc.description.abstract	В работе представлено физическое описание формирования слоя положительного заряда вокруг объекта исследования при обработке в высокочастотном ёмкостном (ВЧЕ) разряде, вследствие чего возникает направленный поток низкоэнергетических ионов, бомбардирующих поверхность модифицируемого изделия. С помощью голографических измерений продемонстрировано наличие слоя, отличающегося от плазмы ВЧЕ разряда, вокруг обрабатываемого тела. Оптимальным методом измерений был признан метод перезаписи голограмм, суть которого состояла в последовательной регистрации голограмм с использованием восстановленных волн с предыдущей голограммы, благодаря чему коэффициент чувствительности измерений увеличивается. Представлено теоретическое обоснование голографических измерений, а также исследовано влияние потенциалов плазмы, энергий ионов и плотности ионного тока на поверхность обрабатываемого тела. Детально описаны методология экспериментов и измерительное оборудование.	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	слой положительного заряда (СПЗ)	ru_RU
dc.subject	поток низкоэнергетических ионов	ru_RU
dc.subject	высокочастотный ёмкостной (ВЧЕ) разряд	ru_RU
dc.subject	плазменная обработка	ru_RU
dc.title	Особенности формирования слоя положительного заряда при модификации изделий в струе высокочастотного ёмкостного разряда в условиях динамического вакуума	ru_RU
dc.type	Articles in Russian journals and collections	ru_RU