Form of presentation | Articles in Russian journals and collections |
Year of publication | 2020 |
Язык | русский |
|
Vorobev Vyacheslav Valerevich, author
Gumarov Amir Ildusovich, author
Rogov Aleksey Mikhaylovich, author
Tagirov Lenar Rafgatovich, author
|
|
Stepanov Andrey Lvovich, author
|
Bibliographic description in the original language |
Vorobev V.V. Issledovanie morfologii poverkhnosti i khimicheskogo sostava kremniya, implantirovannogo ionami medi / V.V. Vorobev, A.I. Gumarov, L.R. Tagirov, A.M. Rogov, V.I. Nuzhdin, A.L. Stepanov // ZhTF. - 2020. - T.90, №.10. - S. 1715-1723. |
Annotation |
Представлены результаты исследований структуры и химического состава поверхности монокристаллических подложек кремния c-Si, имплантированных ионами Cu+ с энергией 40 keV и дозами в диапазоне 3.1 ? 1015−1.25 ? 1017 ions/cm2
при плотности тока в ионном пучке 8 ?A/cm2. Методами сканирующей электронной и зондовой микроскопии в сочетании с рентгеновской фотоэлектронной и ожеэлектронной спектроскопии установлено, что на начальной стадии облучения ионами Cu+ до величины дозы 6.25 ? 1016 ions/cm2, в приповерхностном слое Si формируются металлические наночастицы Cu со средним размером 10 nm. При дальнейшем росте дозы имплантации, начиная со значения 1.25 ? 1017 ions/cm2
и выше, происходит зарождение η-фазы силицида меди — η-Cu3Si. Данное обстоятельство обусловлено разогревом приповерхностного слоя подложки Si во время ее облучения до температуры, способствующей фазообразованию η-Cu3Si. |
Keywords |
высокодозовая ионная имплантация, наночастицы меди, силицид меди |
The name of the journal |
Журнал технической физики
|
URL |
http://journals.ioffe.ru/articles/49804 |
Please use this ID to quote from or refer to the card |
https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=234196&p_lang=2 |
Full metadata record |
Field DC |
Value |
Language |
dc.contributor.author |
Vorobev Vyacheslav Valerevich |
ru_RU |
dc.contributor.author |
Gumarov Amir Ildusovich |
ru_RU |
dc.contributor.author |
Rogov Aleksey Mikhaylovich |
ru_RU |
dc.contributor.author |
Tagirov Lenar Rafgatovich |
ru_RU |
dc.contributor.author |
Stepanov Andrey Lvovich |
ru_RU |
dc.date.accessioned |
2020-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
dc.date.available |
2020-01-01T00:00:00Z |
ru_RU |
dc.date.issued |
2020 |
ru_RU |
dc.identifier.citation |
Воробьев В.В. Исследование морфологии поверхности и химического состава кремния, имплантированного ионами меди / В.В. Воробьев, А.И. Гумаров, Л.Р. Тагиров, А.М. Рогов, В.И. Нуждин, А.Л. Степанов // ЖТФ. - 2020. - Т.90, №.10. - С. 1715-1723. |
ru_RU |
dc.identifier.uri |
https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=234196&p_lang=2 |
ru_RU |
dc.description.abstract |
Журнал технической физики |
ru_RU |
dc.description.abstract |
Представлены результаты исследований структуры и химического состава поверхности монокристаллических подложек кремния c-Si, имплантированных ионами Cu+ с энергией 40 keV и дозами в диапазоне 3.1 ? 1015−1.25 ? 1017 ions/cm2
при плотности тока в ионном пучке 8 ?A/cm2. Методами сканирующей электронной и зондовой микроскопии в сочетании с рентгеновской фотоэлектронной и ожеэлектронной спектроскопии установлено, что на начальной стадии облучения ионами Cu+ до величины дозы 6.25 ? 1016 ions/cm2, в приповерхностном слое Si формируются металлические наночастицы Cu со средним размером 10 nm. При дальнейшем росте дозы имплантации, начиная со значения 1.25 ? 1017 ions/cm2
и выше, происходит зарождение η-фазы силицида меди — η-Cu3Si. Данное обстоятельство обусловлено разогревом приповерхностного слоя подложки Si во время ее облучения до температуры, способствующей фазообразованию η-Cu3Si. |
ru_RU |
dc.language.iso |
ru |
ru_RU |
dc.subject |
высокодозовая ионная имплантация |
ru_RU |
dc.subject |
наночастицы меди |
ru_RU |
dc.subject |
силицид меди |
ru_RU |
dc.title |
Исследование морфологии поверхности и химического состава кремния, имплантированного ионами меди |
ru_RU |
dc.type |
Articles in Russian journals and collections |
ru_RU |
|