KFU. Card publication. Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов

- RUS
- 中文
- ES

АНАЛИЗ ПОВЕРХНОСТИ КРЕМНИЯ, ИМПЛАНТИРОВАННОГО ИОНАМИ СЕРЕБРА, МЕТОДАМИ СПЕКТРАЛЬНОЙ ЭЛЛИПСОМЕТРИИ И ДИФРАКЦИИ ОТРАЖЕННЫХ ЭЛЕКТРОНОВ

Form of presentation

Articles in Russian journals and collections

Year of publication

2016

Язык

русский

Authors, employees of KFU

Vorobev Vyacheslav Valerevich, author

Osin Yuriy Nikolaevich, author

Stepanov Andrey Lvovich, author

Other authors

Bazarov V. V., author

Valeev V F, author

Nuzhdin Vladimir Ivanovich, author

Authors, postgraduates KFU

Vorobev Vyacheslav Valerevich, postgraduate kfu

Bibliographic description in the original language

Bazarov V. V., Nuzhdin V. I., Valeev V. F., Vorobev V. V., Osin Yu. N., Stepanov A. L., Analiz poverkhnosti kremniya, implantirovannogo ionami serebra, metodami spektralnoy ellipsometrii i difrakcii otrazhennykh elektronov // Zhurnal prikladnoy spektroskopii, 2016, T. 82, № 1, S. 55-59.

Annotation

Журнал прикладной спектроскопии

Keywords

пористый кремний, ионная имплантация, спектральная эллипсометрия, дифракция отраженных электронов.

The name of the journal

Журнал прикладной спектроскопии

Please use this ID to quote from or refer to the card

https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=127126&p_lang=2

Resource files

File name	Size (MB)	Format
08.pdf	0,36	pdf	show / download

Full metadata record

Field DC	Value	Language
dc.contributor.author	Vorobev Vyacheslav Valerevich	ru_RU
dc.contributor.author	Osin Yuriy Nikolaevich	ru_RU
dc.contributor.author	Stepanov Andrey Lvovich	ru_RU
dc.contributor.author	Bazarov V. V.	ru_RU
dc.contributor.author	Valeev V F	ru_RU
dc.contributor.author	Nuzhdin Vladimir Ivanovich	ru_RU
dc.contributor.author	Vorobev Vyacheslav Valerevich	ru_RU
dc.date.accessioned	2016-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2016-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2016	ru_RU
dc.identifier.citation	Базаров В. В., Нуждин В. И., Валеев В. Ф., Воробьев В. В., Осин Ю. Н., Степанов А. Л., Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов // Журнал прикладной спектроскопии, 2016, Т. 82, № 1, С. 55-59.	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=127126&p_lang=2	ru_RU
dc.description.abstract	Журнал прикладной спектроскопии	ru_RU
dc.description.abstract	Журнал прикладной спектроскопии	ru_RU
dc.description.abstract	Представлены результаты исследований методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов аморфного кремния (а-Si), сформированного на поверхности монокристаллических подложек (c-Si) низкоэнергетической низкодозовой имплантацией ионов серебра. Имплантация проводилась с энергией 30 кэВ при постоянной плотности тока в ионном пучке 2 мкА/см2 в интервале доз 6.24  1012?1.25  1016 ион/см2 при комнатной температуре облучаемых подложек. Для доз имплантации 6.24  1013 и 1.87  1014 ион/см2 проведено облучение с плотностью тока 0.1?5 мкA/cм2. Показано, что спектральная эллипсометрия является точным и надежным методом контроля технологического процесса низкодозовой ионной имплантации.	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	пористый кремний	ru_RU
dc.subject	ионная имплантация	ru_RU
dc.subject	спектральная эллипсометрия	ru_RU
dc.subject	дифракция отраженных электронов.	ru_RU
dc.title	Анализ поверхности кремния, имплантированного ионами серебра, методами спектральной эллипсометрии и дифракции отраженных электронов	ru_RU
dc.type	Articles in Russian journals and collections	ru_RU