KFU. Card publication. ДИФРАКЦИЯ ОТРАЖЕННЫХ ЭЛЕКТРОНОВ ОТ НАНОПОРИСТОГО КРЕМНИЯ, СФОРМИРОВАННОГО НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ИМПЛАНТАЦИЕЙ ИОНАМИ СЕРЕБРА

- RUS
- 中文
- ES

ДИФРАКЦИЯ ОТРАЖЕННЫХ ЭЛЕКТРОНОВ ОТ НАНОПОРИСТОГО КРЕМНИЯ, СФОРМИРОВАННОГО НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ИМПЛАНТАЦИЕЙ ИОНАМИ СЕРЕБРА

Form of presentation

Articles in Russian journals and collections

Year of publication

2015

Язык

русский

Authors, employees of KFU

Vorobev Vyacheslav Valerevich, author

Osin Yuriy Nikolaevich, author

Stepanov Andrey Lvovich, author

Other authors

Valeev Valeriy Ferdinandovich, author

Ermakov Mikhail A., author

Nuzhdin Vladimir Ivanovich, author

Authors, postgraduates KFU

Vorobev Vyacheslav Valerevich, postgraduate kfu

Bibliographic description in the original language

V.V. Vorobev, Yu.N. Osin, M.A. Ermakov, V.F. Valeev, V.I. Nuzhdin, A.L. Stepanov DIFRAKCIYa OTRAZhENNYKh ELEKTRONOV OT NANOPORISTOGO KREMNIYa, SFORMIROVANNOGO NIZKOENERGETIChESKOY IMPLANTACIEY IONAMI SEREBRA // NANOTEKhNOLOGII: NAUKA I PROIZVODSTVO № 1, 2015, str. 42-52

Annotation

Представлены результаты структурного исследования методом дифракции отраженных электронов (ДОЭ) нанопористого кремния (PSi), сформированного на поверхности монокри- сталлического (с-Si) и аморфизованного (а-Si) кремния, низкоэнергетической имплантацией ионами серебра. Имплантация проводилась с энергией 30 кэВ при дозе 1.51017 ион/см2 и плотности тока в ионном пучке 8 мкA/см2 при комнатной температуре облучаемой подложки Si. Аморфизация с-Si была осуществлена имплантацией ионами He+ с энергией 40 кэВ при той же дозе. Показано, что в результате ионной имплантации на с-Si и а-Si формируется тонкий аморфный слой PSi, в структуре которого присутствуют наночастицы серебра. Про- ведение термического отжига структуры Ag:PSi на с-Si при температуре 600ºС в течении 30 минут приводит к частичному восстановлению кристаллической решетки Si и практически полному разрушению металлических наночастиц при существенном пониже

Keywords

дифракция обратно рассеянных электронов, пористый кремний, ион- ная имплантация

The name of the journal

НАНОТЕХ

Please use this ID to quote from or refer to the card

https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=107784&p_lang=2

Resource files

File name	Size (MB)	Format
Vorobev.Nano.2015.1.pdf	0,82	pdf	show / download

Full metadata record

Field DC	Value	Language
dc.contributor.author	Vorobev Vyacheslav Valerevich	ru_RU
dc.contributor.author	Osin Yuriy Nikolaevich	ru_RU
dc.contributor.author	Stepanov Andrey Lvovich	ru_RU
dc.contributor.author	Valeev Valeriy Ferdinandovich	ru_RU
dc.contributor.author	Ermakov Mikhail A.	ru_RU
dc.contributor.author	Nuzhdin Vladimir Ivanovich	ru_RU
dc.contributor.author	Vorobev Vyacheslav Valerevich	ru_RU
dc.date.accessioned	2015-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.available	2015-01-01T00:00:00Z	ru_RU
dc.date.issued	2015	ru_RU
dc.identifier.citation	В.В. Воробъев, Ю.Н. Осин, М.А. Ермаков, В.Ф. Валеев, В.И. Нуждин, А.Л. Степанов ДИФРАКЦИЯ ОТРАЖЕННЫХ ЭЛЕКТРОНОВ ОТ НАНОПОРИСТОГО КРЕМНИЯ, СФОРМИРОВАННОГО НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ИМПЛАНТАЦИЕЙ ИОНАМИ СЕРЕБРА // НАНОТЕХНОЛОГИИ: НАУКА И ПРОИЗВОДСТВО № 1, 2015, стр. 42-52	ru_RU
dc.identifier.uri	https://repository.kpfu.ru/eng/?p_id=107784&p_lang=2	ru_RU
dc.description.abstract	НАНОТЕХ	ru_RU
dc.description.abstract	Представлены результаты структурного исследования методом дифракции отраженных электронов (ДОЭ) нанопористого кремния (PSi), сформированного на поверхности монокри- сталлического (с-Si) и аморфизованного (а-Si) кремния, низкоэнергетической имплантацией ионами серебра. Имплантация проводилась с энергией 30 кэВ при дозе 1.51017 ион/см2 и плотности тока в ионном пучке 8 мкA/см2 при комнатной температуре облучаемой подложки Si. Аморфизация с-Si была осуществлена имплантацией ионами He+ с энергией 40 кэВ при той же дозе. Показано, что в результате ионной имплантации на с-Si и а-Si формируется тонкий аморфный слой PSi, в структуре которого присутствуют наночастицы серебра. Про- ведение термического отжига структуры Ag:PSi на с-Si при температуре 600ºС в течении 30 минут приводит к частичному восстановлению кристаллической решетки Si и практически полному разрушению металлических наночастиц при существенном пониже	ru_RU
dc.language.iso	ru	ru_RU
dc.subject	дифракция обратно рассеянных электронов	ru_RU
dc.subject	пористый кремний	ru_RU
dc.subject	ион- ная имплантация	ru_RU
dc.title	ДИФРАКЦИЯ ОТРАЖЕННЫХ ЭЛЕКТРОНОВ ОТ НАНОПОРИСТОГО КРЕМНИЯ, СФОРМИРОВАННОГО НИЗКОЭНЕРГЕТИЧЕСКОЙ ИМПЛАНТАЦИЕЙ ИОНАМИ СЕРЕБРА	ru_RU
dc.type	Articles in Russian journals and collections	ru_RU